විවිධ මාධ්‍යවල ලක්ෂණ සහ සුදුසු ද්‍රව්‍ය විස්තරය

නයිට්‍රික් අම්ලය (HNO3)

පොදු ලක්ෂණ:එය ඔක්සිකාරක මාධ්‍යයකි. සාන්ද්‍රිත HNO3 සාමාන්‍යයෙන් 40°C ට අඩු උෂ්ණත්වවලදී ක්‍රියාත්මක වේ. ක්‍රෝමියම් (Cr) සහ සිලිකන් (Si) වැනි මූලද්‍රව්‍ය ඔක්සිකරණයට ප්‍රතිරෝධී වන අතර, සාන්ද්‍රිත HNO3 වලින් විඛාදනයට ප්‍රතිරෝධය දැක්වීම සඳහා මල නොබැඳෙන වානේ සහ Cr සහ Si අඩංගු අනෙකුත් ද්‍රව්‍ය කදිම කරයි.
ඉහළ සිලිකන් වාත්තු යකඩ (STSi15R):93% සාන්ද්‍රණයට අඩු සියලුම උෂ්ණත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ.
ඉහළ ක්‍රෝමියම් වාත්තු යකඩ (Cr28):80% සාන්ද්‍රණයට අඩු සියලුම උෂ්ණත්ව සඳහා සුදුසු වේ.
මල නොබැඳෙන වානේ (SUS304, SUS316, SUS316L):80% සාන්ද්‍රණයට අඩු සියලුම උෂ්ණත්ව සඳහා සුදුසු වේ.
S-05 වානේ (0Cr13Ni7Si4):98% සාන්ද්‍රණයට අඩු සියලුම උෂ්ණත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ.
වාණිජමය වශයෙන් පිරිසිදු ටයිටේනියම් (TA1, TA2):තාපාංකයට වඩා අඩු සියලු උෂ්ණත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ (ධූමනය සඳහා හැර).
වාණිජමය වශයෙන් පිරිසිදු ඇලුමිනියම් (Al):කාමර උෂ්ණත්වයේ දී සියලුම උෂ්ණත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ (බහාලුම්වල භාවිතය සඳහා පමණි).
CD-4MCu වයස්ගත දැඩි කළ මිශ්‍ර ලෝහය:තාපාංකයට වඩා අඩු සියලු උෂ්ණත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ.
ඒවායේ විශිෂ්ට විඛාදන ප්‍රතිරෝධය නිසා, ඉන්කොනෙල්, හැස්ටෙලෝයි සී, රන් සහ ටැන්ටලම් වැනි ද්‍රව්‍ය ද සුදුසු ය.

සල්ෆියුරික් අම්ලය (H2SO4)

පොදු ලක්ෂණ:සාන්ද්‍රණය වැඩි වන විට තාපාංකය වැඩි වේ. උදාහරණයක් ලෙස, 5% සාන්ද්‍රණයකදී, තාපාංකය 101°C; 50% සාන්ද්‍රණයකදී එය 124°C; සහ 98% සාන්ද්‍රණයකදී එය 332°C වේ. 75% සාන්ද්‍රණයට වඩා අඩු විට, එය අඩු කිරීමේ ගුණ (හෝ උදාසීන) ප්‍රදර්ශනය කරන අතර, 75% ට වඩා වැඩි විට, එය ඔක්සිකාරක ගුණ ප්‍රදර්ශනය කරයි.
මල නොබැඳෙන වානේ (SUS316, SUS316L):40°C ට අඩු, සාන්ද්‍රණය 20% ක් පමණ.
904 වානේ (SUS904, SUS904L):40~60°C, 20~75% සාන්ද්‍රණය අතර උෂ්ණත්වයන් සඳහා සුදුසු වේ; 80°C දී 60% ට අඩු සාන්ද්‍රණයකට.
ඉහළ සිලිකන් වාත්තු යකඩ (STSi15R):කාමර උෂ්ණත්වයේ සිට 90°C දක්වා විවිධ සාන්ද්‍රණයන්.
පිරිසිදු ඊයම්, තද ඊයම්:කාමර උෂ්ණත්වයේ විවිධ උෂ්ණත්ව.
S-05 වානේ (0Cr13Ni7Si4):90°C ට අඩු සාන්ද්‍රිත සල්ෆියුරික් අම්ලය, ඉහළ උෂ්ණත්ව සාන්ද්‍රිත සල්ෆියුරික් අම්ලය (120~150°C).
සාමාන්‍ය කාබන් වානේ:කාමර උෂ්ණත්වයේ දී 70% ට වැඩි සාන්ද්‍රිත සල්ෆියුරික් අම්ලය.
වාත්තු යකඩ:කාමර උෂ්ණත්වයේ දී සාන්ද්‍රිත සල්ෆියුරික් අම්ලය.
මොනෙල්, නිකල් ලෝහ, ඉන්කනෙල්:මධ්‍යම උෂ්ණත්වය සහ මධ්‍යම සාන්ද්‍රණය සහිත සල්ෆියුරික් අම්ලය.
ටයිටේනියම් මොලිබ්ඩිනම් මිශ්‍ර ලෝහය (Ti-32Mo):තාපාංකයට පහළින්, 60% සල්ෆියුරික් අම්ලය; 50°C ට අඩු, 98% සල්ෆියුරික් අම්ලය.
හැස්ටෙලෝයි බී, ඩී:100°C ට අඩු, 75% සල්ෆියුරික් අම්ලය.
හැස්ටෙලෝයි සී:100°C පමණ විවිධ උෂ්ණත්වයන්.
නිකල් වාත්තු යකඩ (STNiCr202):කාමර උෂ්ණත්වයේ දී 60~90% සල්ෆියුරික් අම්ලය.

හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය (HCl)

පොදු ලක්ෂණ:එය 36-37% සාන්ද්‍රණයකදී ඉහළම උෂ්ණත්වයක් සහිත අඩු කිරීමේ මාධ්‍යයකි. තාපාංකය: 20% සාන්ද්‍රණයකදී එය 110°C; 20-36% සාන්ද්‍රණය අතර එය 50°C වේ; එබැවින්, හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය සඳහා උපරිම උෂ්ණත්වය 50°C වේ.
ටැන්ටලම් (Ta):එය හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය සඳහා වඩාත් සුදුසු විඛාදනයට ඔරොත්තු දෙන ද්‍රව්‍යය වන නමුත් එය මිල අධික වන අතර නිරවද්‍ය මිනුම් උපකරණවල බහුලව භාවිතා වේ.
හැස්ටෙලෝයි බී:≤ 50°C උෂ්ණත්වයකදී සහ 36% දක්වා සාන්ද්‍රණයකදී හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.
ටයිටේනියම්-මොලිබ්ඩිනම් මිශ්‍ර ලෝහය (Ti-32Mo):සියලුම උෂ්ණත්වයන් සහ සාන්ද්‍රණයන් සඳහා සුදුසු වේ.
නිකල්-මොලිබ්ඩිනම් මිශ්‍ර ලෝහය (ක්ලෝරිමෙට්, 0Ni62Mo32Fe3):සියලුම උෂ්ණත්වයන් සහ සාන්ද්‍රණයන් සඳහා සුදුසු වේ.
වාණිජ පිරිසිදු ටයිටේනියම් (TA1, TA2):කාමර උෂ්ණත්වයේ දී සහ 10% ට අඩු සාන්ද්‍රණයකදී හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.
ZXSNM(L) මිශ්‍ර ලෝහය (00Ni70Mo28Fe2):50 ° C උෂ්ණත්වයකදී සහ 36% ක සාන්ද්‍රණයකදී හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.

පොස්පරික් අම්ලය (H3PO4)

පොස්පරික් අම්ලයේ සාන්ද්‍රණය සාමාන්‍යයෙන් 30-40% අතර වන අතර උෂ්ණත්ව පරාසය 80-90°C වේ. පොස්පරික් අම්ලයේ බොහෝ විට H2SO4, F- අයන, Cl- අයන සහ සිලිකේට් වැනි අපද්‍රව්‍ය අඩංගු වේ.
මල නොබැඳෙන වානේ (SUS316, SUS316L):85% ට අඩු සාන්ද්‍රණයක් සහිත තාපාංක පොස්පරික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.
ඩුරිමෙට් 20 (මිශ්‍ර ලෝහ 20):තාපාංකයට වඩා අඩු උෂ්ණත්වයන් සහ 85% ට අඩු සාන්ද්‍රණයන් සඳහා විඛාදනයට සහ ඇඳීමට ඔරොත්තු දෙන මිශ්‍ර ලෝහය.
සීඩී -4 එම්සීයූ:වයසට ඔරොත්තු දෙන, විඛාදනයට ඔරොත්තු දෙන සහ කල් පවතින මිශ්‍ර ලෝහයකි.
ඉහළ සිලිකන් වාත්තු යකඩ (STSi15R), ඉහළ ක්‍රෝමියම් වාත්තු යකඩ (Cr28):තාපාංකයට පහළින් විවිධ සාන්ද්‍රණ නයිට්‍රික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.
904, 904L:තාපාංකයට පහළින් විවිධ සාන්ද්‍රණ නයිට්‍රික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.
ඉන්කනෙල් 825:තාපාංකයට පහළින් විවිධ සාන්ද්‍රණ නයිට්‍රික් අම්ලය සඳහා සුදුසු වේ.

හයිඩ්‍රොෆ්ලෝරික් අම්ලය (HF)

පොදු ලක්ෂණ:හයිඩ්‍රොෆ්ලෝරික් අම්ලය ඉතා විෂ සහිතයි. ඉහළ සිලිකන් වාත්තු යකඩ, පිඟන් මැටි සහ වීදුරු සාමාන්‍යයෙන් බොහෝ අම්ල වලට ප්‍රතිරෝධී වේ, නමුත් හයිඩ්‍රොෆ්ලෝරික් අම්ලය ඒවා විඛාදනයට ලක් කළ හැකිය.
මැග්නීසියම් (Mg):එය හයිඩ්‍රොෆ්ලෝරික් අම්ලය සඳහා කදිම විඛාදනයට ඔරොත්තු දෙන ද්‍රව්‍යයක් වන අතර සාමාන්‍යයෙන් බහාලුම් සඳහා භාවිතා වේ.
ටයිටේනියම්:කාමර උෂ්ණත්වයේ දී 60-100% සාන්ද්‍රණයන් සඳහා සුදුසු ය; 60% ට අඩු සාන්ද්‍රණයන් සමඟ විඛාදන අනුපාතය වැඩි වේ.
මොනෙල් මිශ්‍ර ලෝහය:එය හයිඩ්‍රොෆ්ලෝරික් අම්ලයට ප්‍රතිරෝධී වන කැපී පෙනෙන ද්‍රව්‍යයක් වන අතර තාපාංක ඇතුළුව සියලු උෂ්ණත්වයන් සහ සාන්ද්‍රණයන්ට ඔරොත්තු දීමේ හැකියාව ඇත.
රිදී (අග්‍ර):මිනුම් උපකරණවල හයිඩ්‍රොෆ්ලෝරික් අම්ලය තම්බා ගැනීම බහුලව භාවිතා වේ.

සෝඩියම් හයිඩ්‍රොක්සයිඩ් (NaOH)

පොදු ලක්ෂණ:උෂ්ණත්වය සමඟ සෝඩියම් හයිඩ්‍රොක්සයිඩ්වල විඛාදන හැකියාව වැඩි වේ.
SUS304, SUS304L, SUS316, SUS316L:සාන්ද්‍රණය 42%, කාමර උෂ්ණත්වය 100°C දක්වා.
නිකල් වාත්තු යකඩ (STNiCr202):සාන්ද්‍රණය 40% ට අඩු, උෂ්ණත්වය 100°C ට අඩු.
ඉන්කොනෙල් 804, 825:සාන්ද්‍රණය (NaOH+NaCl) 42% දක්වා 150°C දක්වා ළඟා විය හැක.
පිරිසිදු නිකල්:සාන්ද්‍රණය (NaOH+NaCl) 42% දක්වා 150°C දක්වා ළඟා විය හැක.
මොනෙල් මිශ්‍ර ලෝහය:ඉහළ උෂ්ණත්ව, ඉහළ සාන්ද්‍රණයකින් යුත් සෝඩියම් හයිඩ්‍රොක්සයිඩ් ද්‍රාවණ සඳහා සුදුසු වේ.

සෝඩියම් කාබනේට් (Na2CO3)

සෝඩා අළු වල මව් මත්පැන් වල 20-26% NaCl, 78% Cl2 සහ 2-5% CO2 අඩංගු වන අතර උෂ්ණත්ව විචලනයන් සෙල්සියස් අංශක 32 සිට 70 දක්වා පරාසයක පවතී.
ඉහළ සිලිකන් වාත්තු යකඩ:සෙල්සියස් අංශක 32 සිට 70 දක්වා උෂ්ණත්වයක් සහ 20-26% සාන්ද්‍රණයක් සහිත සෝඩා අළු සඳහා සුදුසු වේ.
කාර්මික පිරිසිදු ටයිටේනියම්:චීනයේ ප්‍රධාන සෝඩා අළු කම්හල් කිහිපයක් දැනට මව් මත්පැන් සහ අනෙකුත් මාධ්‍ය සඳහා ටයිටේනියම් වලින් සාදන ලද ටයිටේනියම් පොම්ප භාවිතා කරයි.

ඛනිජ රසායනික, ඖෂධ සහ ආහාර කර්මාන්ත

ඛනිජ තෙල්:0Cr13, 1Cr13, 1Cr17.
ඛනිජ රසායනික:1Cr18Ni9 (304), 1Cr18Ni12Mo2Ti (SUS316).
ෆෝමික් අම්ලය:904, 904L.
ඇසිටික් අම්ලය:ටයිටේනියම් (Ti), 316L.
ඖෂධ:ඉහළ සිලිකන් වාත්තු යකඩ, SUS316, SUS316L.
ආහාර:1Cr18Ni9, 0Cr13, 1Cr13."